2021.01.26.
韓国特許庁『2021年度商標・デザイン制度の動向説明会』開催
韓国特許庁は、2021年1月21日にオンラインで『2021年度商標・デザイン制度の動向説明会』を開催した。
この動向説明会の説明をきくと、2021年度に商標とデザイン(意匠)制度において相当な制度変化が予想される。下記では簡単に説明を要約する。
-記-
1. 2021年度商標制度の動向要約
(1) 商標審査基準の改正(2021年1月1日施行)
・著名な他人の商標に対する承諾事項に係る事項の整備
・機能的要素関連商標の審査基準の整備
・新しい類型の立体商標の保護を明示、識別力判断基準の改善
・色彩商標の定義の明確化、表現方式の拡大、使用による識別力判断等
・外国語商標の審査範囲の拡大
(2) 商標法施行規則の改正(2021年2月1日施行)
・立体・位置商標の見本において図面数量制限の緩和(5枚以内に)
・国際商標登録出願に係る音・匂い商標の補正期間の延長(1ヶ月→3か月)
(3) 商標法一部改正の推進予定(改正法公布後6か月後施行)
・部分拒絶及び再審査請求制度の導入
(拒絶理由のある一部指定商品のみを拒絶、再審査請求可能)
(拒絶理由のない指定商品は登録)
・偽造商標の流通防止のための侵害関連法令の改正
2. 2021年度デザイン制度の動向要約
(1) 画像デザインの保護対象の拡大(2021年下半期、法改正及び施行予定)
・空間等に投影され表現される機能的画像デザインの保護
・デザイン保護対象を物品以外の画像デザインまで拡大
(画像デザインの製作・使用・オンライン伝送も実施行為と認定)
(2) 一組の物品の部分デザイン認定(2021年下半期、法改正及び施行予定)
・一組の物品等に対しても部分デザインとして保護
(3) 秘密デザインの物品の名称及び物品類等も非公開(2021年4月施行予定)
(4) デザイン一部審査対象の拡大(2020年12月1日より施行中)
・衣類・織物地・文具類に食品・身の回り品・包装容器・ジュエリー追加
(5) 字体デザインの図面提出の簡素化(2020年9月1日施行)
(6) デザイン一部審査対象の迅速処理計画(60日水準→10日以内に)
参考: 1.
オンライン説明会
参考: 2.
説明会資料
以上 |