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韓国企業、露光装置分野の特許出願活発

본문

2006.05.15.

韓国企業、露光装置分野の特許出願活発


特許庁では、最近21年間露光装置の核心要素技術分野に対する韓国・米国・日本の三国の特許出願を分析した結果(但し、米国は登録特許)、その間相対的に低調であった我が国の特許出願件数が最近になって大幅に増加していると明らかにした。

最近半導体チップの小型化と大量化の趨勢による回路パターンの微細化で高精密度の露光装置開発が要求されている。半導体ウェハに作ろうとする回路パターンを有しているマスクを通じて光を透過させその形態をマスクから感光剤に移す作業、即ち光源を利用して所望の部分に微細パターンを形成させる技術を光微細加工技術(Photolithography)といい、このような工程を遂行する装置を露光装置という。

1985年から2005年までの21年間、韓国、米国及び日本で出願された(但し、米国は登録特許)半導体及びディスプレイ用露光装置の核心要素技術分野(Illuminator,Reticle System,Plate Handler及びEdge Exposure)に対する特許を分析した結果、総出願件数は4,804件であり、技術別にはIlluminator分野が全体の48%(2,342件)と最も高い占有率を見せており、その次にReticle System分野30%(1,438件)、Plate Handler分野17%(803件)、Edge Exposure分野5%(223件)となり、国別占有率は韓国21%(1,012件)、米国36%(1,717件)、日本43%(2,077件)と表れている。

日本の特許出願件数が韓国や米国に比べ多く、このような傾向はIlluminator分野ではっきりしている。日本では世界露光装置市場占有率1位であるNikon社をはじめCanon社等の露光装置業者らの特許が継続して出願されているためであるものと判断される。

しかし、最近5年間('01年~'05年)出願占有率だけを見ると、韓国31.8%(475件)、米国36.8%(549件)、日本31.4%(468件)で、さる16年間('85年~'00年)の出願占有率、韓国16.2%(537件)、米国35.2%(1,168件)、日本48.6%(1,609件)と比較してみるとき、その間相対的に低調であった我が国の特許出願件数が最近になって大幅に増加していることがわかる。

韓国内企業の場合、三星電子とハイニックス半導体等が特許活動を見せているが、主に国内での特許活動にかたよっており、三星電子の場合、海外出願の比率は8.4%と国内出願比率91.6%に比べ非常に低い方で、外国業者らの高い技術障壁を飛び越えるためには企業のみならず国家の次元で露光装置核心要素技術分野の重要性を認識し、もう少し積極的な投資及び研究開発で技術力を確保することが必要であり、また海外出願活動を通じた特許権確保が切実に必要であるといえる。

(出典:特許庁報道資料)

図1.露光装置の核心要素技術分野の国家別特許占有率
060515_1.JPG  

図2.露光装置の核心要素技術分野出願の年度別・国家別出願件数

  

'85 ~ '00

'01 ~'05

韓 国

537 件 (16.2%)

475 件 (31.8%)

1012 件

アメリカ

1168 件 (35.2%)

549 件 (36.8%)

1717 件

日 本

1609 件 (48.6%)

468 件 (31.4%)

2077 件

 


図3.露光装置の核心要素技術分野の国家別出願占有率(%)の変化
 

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